測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
82mm光柵尺解析度
0.1um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
82mm光柵尺解析度
0.1um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
82mm光柵尺解析度
0.1um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
82mm光柵尺解析度
0.1um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/100重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/100重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/100重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/100重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
25.2~158.4X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.1um測量精度
重復精度
總放大倍率
物方視場
工作距離
光柵尺解析度
新聞資訊
News時間:05-29 2023 來自:祥宇精密
從小到大,我們都知道顯微鏡是一種幫助我們放大物體的工具。而隨著技術的發(fā)展,顯微鏡也逐漸升級為工具顯微鏡。這種新型顯微鏡不僅可以將物體放大,還能夠用于許多領域,包括醫(yī)學、生命科學、材料科學等。
一、 工具顯微鏡簡介
工具顯微鏡是一種高端顯微鏡,它可以將物體放大至納米級別。相比傳統(tǒng)顯微鏡,工具顯微鏡具有更高的分辨率和更強的幾何掃描電子顯微鏡(SEM)能力,使得它能夠捕捉到更細微的細節(jié)。此外,它還具備非接觸、高速掃描、快速成像、三維成像等特點,這些優(yōu)點使得工具顯微鏡在各個領域的應用越來越廣泛。
二、 工具顯微鏡在醫(yī)學中的應用
1. 細胞結構研究
工具顯微鏡可以用于細胞結構的研究。通過顯微鏡放大觀察細胞,科學家可以更加深入地了解細胞的結構、功能和代謝過程,進而探究癌癥、心血管疾病等疾病的產(chǎn)生和發(fā)展機制。
2. 病原體檢測
工具顯微鏡還可以被應用在病原體檢測方面。例如,新冠病毒是一種致命的傳染性病毒,它的檢測對于防控疫情至關重要。工具顯微鏡利用其高靈敏度和高特異性,可以快速準確地診斷患者體內(nèi)是否存在病毒,為防控疫情提供有力支持。
三、 工具顯微鏡在生命科學中的應用
1. 分子生物學研究
工具顯微鏡在分子生物學研究中也有廣泛的應用。例如,科學家可以使用它來觀察蛋白質、核酸等分子之間的相互作用,以及這些分子在細胞內(nèi)的位置和功能。這些研究可以幫助我們更好地理解基因組和細胞的生物學過程,進而對藥物研發(fā)和疾病治療提供有力支持。
2. 焦電子顯微鏡成像
工具顯微鏡還可以應用于焦電子顯微鏡成像中。通過使用工具顯微鏡,科學家可以獲得更高分辨率的成像結果,從而更好地觀察細胞、組織和生物分子的形態(tài)和結構。
四、 工具顯微鏡在材料科學中的應用
1. 材料成像
工具顯微鏡可以用于材料成像領域。科學家可以使用它來觀察材料的表面、界面和微觀結構,并對其進行分析和研究。例如,在納米材料的研究領域中,工具顯微鏡可以用于觀察納米材料的形態(tài)、大小、分布等特征,從而更好地理解其物理和化學性質。
2. 材料分析
除了成像外,工具顯微鏡還可以應用于材料分析領域。例如,利用能量色散X射線光譜(EDS)技術,科學家可以對樣品進行元素分析,并通過顯微鏡圖像和元素分布圖來獲取關于材料化學組成的信息。
參考文獻:
1. Kashyap, A., & Gopalakrishnan, S. (2017). Scanning electron microscopy: a review. Journal of Medical Radiological Pathology and Surgery, 3(2), 39-44.
2. De Mello Donegá, C., Liljeroth, P., & Vanmaekelbergh, D. (2005). Optical spectroscopy of semiconductor nanocrystals under high pressure. Journal of Applied Physics, 98(4), 044305.
3. Gao, X., Zhang, Y., Breidt, M., Rauschenbach, B., & Lin, F. (2018). In situ observation on crack initiation and propagation in WC-Co cemented carbide by SEM and insitu bending test. International Journal of Refractory Metals and Hard Materials, 77, 16-24.